日本橫濱國際光學(xué)與光電技術(shù)展覽會（?PMJ2025） 將于 2025 年 4 月 16日（星期三）至 18 日（星期五）舉行。
2025 年日本光掩模會議是日本第 31 屆光掩模和 NGL 掩模國際研討會。研討會的目的是召集來自日本、美國和世界各地的光掩模、NGL 掩模和相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的工程師和研究人員，討論最新進(jìn)展、應(yīng)用和未來趨勢。會議議程將包括受邀論文、投稿論文、海報(bào)會議和小組討論的附加會議。
演講主題：
第1節(jié)
下一代 EUV 掩模板坯的開發(fā)
高數(shù)值孔徑 EUV 光刻的光化空白檢測
第 2 節(jié)
面板的復(fù)雜性和應(yīng)用的多樣化創(chuàng)造了FPD光掩模增長機(jī)會，超過了FPD市場本身
第 3 節(jié)
確保 3DIC 組件中小芯片的良率和可靠性
支持先進(jìn)封裝和異構(gòu)集成的解決方案
光掩模刻印技術(shù)可滿足各種先進(jìn)封裝應(yīng)用需求
征集有關(guān)以下及相關(guān)主題的論文：
- 光掩膜材料
- 光掩膜的制造工藝步驟和設(shè)備（顯影、蝕刻、清潔等）
- 光掩膜刻寫工具和技術(shù)，包括多光束 EB 刻寫器
- 計(jì)量/檢測/維修工具和技術(shù)
- 用于 EUVL/ NIL/ FPD 掩膜的技術(shù)和基礎(chǔ)設(shè)施
- EDA、MDP、曲線 ILT 和 DTCO
- 帶 RET 的光掩膜：PSM、OPC、SMO 和多重圖案化
- 光掩膜相關(guān)光刻技術(shù)
- NGL 掩膜技術(shù)及其應(yīng)用： DSA 及其他
- 戰(zhàn)略和業(yè)務(wù)挑戰(zhàn)：成本、周期時(shí)間和整體掩膜解決方案
- 半導(dǎo)體和電子設(shè)備的圖案技術(shù)
- 半導(dǎo)體制造技術(shù)
- 電子束直寫和電子束光刻技術(shù)
- 利用人工智能技術(shù)提高研發(fā)和 HVM 效率
- 用于中低端掩膜的傳統(tǒng)工具
- 學(xué)術(shù)界的光掩膜和光刻相關(guān)技術(shù)
展會最新時(shí)間及地點(diǎn)：2025 年 4 月 16 日 至 18日??日本? 橫濱??光電??(意向參展請點(diǎn)擊詢洽盈拓展覽專業(yè)展會顧問）
