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半導(dǎo)體制造和相鄰應(yīng)用的光學(xué)和 EUV 光刻、圖案化技術(shù)、計量和工藝集成方面
光學(xué)和 EUV 納米光刻
DTCO 和計算模式
計量、檢驗和過程控制
新穎的圖案化技術(shù)
圖案化材料和工藝的進(jìn)步
用于納米圖案化的先進(jìn)蝕刻技術(shù)和工藝集成
光刻設(shè)備、納米技術(shù)產(chǎn)品、材料、磨料、化學(xué)品、軟件、光學(xué)元件、微技術(shù)、相機(jī)和成像系統(tǒng)
測試測量設(shè)備、顯微鏡、數(shù)據(jù)計算軟件、加工硬件、光學(xué)涂層和薄膜
探測器和傳感器、激光器和激光系統(tǒng)
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